新美光（苏州）半导体科技有限公司抛光硅片技术改造项目配套的环境保护设施调试信息公示 发布日期：2021年11月1日 根据《建设项目竣工环境保护验收暂行办法》等有关规定，现对“新美光（苏州）半导体科技有限公司抛光硅片技术改造项目环境影响报告表”配套建设的环境保护设施调试的信息向社会公示，使项目建设可能影响区域环境内的公众对项目建设情况有所了解，并通过公示了解社会公众对本项目的态度和建议，接受社会公众的监督。 一、建设项目情况简述 项目名称：新美光（苏州）半导体科技有限公司抛光硅片技术改造项目 建设单位：新美光（苏州）半导体科技有限公司 建设概况：本项目总投资1000万元，环保投资为40万元，建设地点位于江苏省苏州市工业园区苏州纳米城西北区20幢107-110单元，项目建成后年产15万片半导体硅片的生产能力。相关设备及治理措施已经安装完成，现进行调试公示。 二、建设单位调试时产生的污染物及措施简述 1、水污染物及治理措施：生活污水直接接管，主要污染物为COD、SS、氨氮、总磷，污染物浓度低，满足污水处理厂接管标准，可以实现达标排放。生产废水主要污染物为COD、SS、氟化物，依托苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司废水处理设施处理后可达《污水综合排放标准》（GB8978-1996）标接管至污水处理厂。 2、大气污染物及治理措施：碱废气经收集后采用喷淋塔处理后通过26米高DA001排气筒排放，氯化氢排放可满足《大气污染物综合排放标准》（GB16297-1996）标准限值、氨排放可满足《恶臭污染物排放标准》（GB14554-93）标准限值。无组织废气污染物氯化氢、氨、氟化氢、非甲烷总烃产生量较小，预计能满足《恶臭污染物排放标准》（GB14554-93）、《大气污染物综合排放标准》（GB16297-1996）和《挥发性有机物无组织排放控制标准》（GB37822-2019）限值要求。 3、噪声污染及治理措施：生产中利用厂房封闭，隔声减振，合理布局，设备运行时，加强设备维修与日常保养、检修与润滑，保证设备良好运转，减轻运行噪声强度，项目厂界噪声可达到《工业企业厂界环境噪声排放标准》（GB12348-2008）表1中2类标准。 4、固体废物及治理措施：一般工业固废外售给物资公司回收综合利用；项目危险废物等进行分类收集和专门收存，并交由有资质单位处置；生活垃圾由当地环卫部门统一处理。 三、调试日期 计划调试开始时间：2021年11月1日 计划调试完成时间：2021年11月15日 四、征求公众意见的范围： 关注本建设项目和周边环境影响区域内的居民、单位等公众。 五、公众反馈方式： 公众可采用向公示指定地址发送信函、电子邮电等方式，发表对该工程竣工的意见和看法，发表意见的同时请提供详细的联系方式，建设单位将听取公众的意见对建设项目进行整改。 六、建设单位名称及联系方式： 建设单位：新美光（苏州）半导体科技有限公司 地址：江苏省苏州市工业园区苏州纳米城西北区20幢107-110单元 联系人：郑工 电话：16606263763 邮箱：1229806675@qq.com